




氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件
氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器,今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來說一下,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些,希望對您有所幫助!
校準(zhǔn)環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ,校準(zhǔn)過程中室溫變化不超過± 1℃ ,環(huán)境相對濕度不大于80% 。
校準(zhǔn)設(shè)備周圍應(yīng)無明顯的溫差、氣流和強(qiáng)電磁場等外部干擾。
環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近,因為標(biāo)準(zhǔn)漏孔的出廠標(biāo)稱漏率對應(yīng)的環(huán)境溫度一般為23℃ 。
氦質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)方法
(1) 漏率校準(zhǔn)① 校準(zhǔn)系統(tǒng)的組成
校準(zhǔn)系統(tǒng)由標(biāo)準(zhǔn)漏孔、截止閥及需校準(zhǔn)的氦質(zhì)譜檢漏儀組成。
②示值誤差
通電預(yù)熱,待氦質(zhì)譜檢漏儀啟動完成后,采用標(biāo)準(zhǔn)漏孔對氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行校準(zhǔn),將一經(jīng)過校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)漏孔接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng),運行氦質(zhì)譜檢漏儀,待漏率示值穩(wěn)定后,可以讀出標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值,同一標(biāo)準(zhǔn)漏孔測量三次,計算氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值,從而得到標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率與氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值的示值誤差。結(jié)束后,將其他量級的標(biāo)準(zhǔn)漏孔依次按此方法接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng)進(jìn)行測試,得到氦質(zhì)譜檢漏儀在每一量級下漏率的示值誤差。由于盒內(nèi)氦濃度較高,相對檢漏儀又有一定壓力,因此有效提高了檢漏靈敏度。
如果測試結(jié)果有較大編差,可以考慮氦質(zhì)譜檢漏儀的自校功能,待完成后,再用標(biāo)準(zhǔn)漏孔進(jìn)行測試。
③ 重復(fù)性
測量重復(fù)性是用實驗標(biāo)準(zhǔn)偏差表征的,本校準(zhǔn)方法采用極差法來表征重復(fù)性。在示值誤差測量中,每一標(biāo)準(zhǔn)漏孔用氦質(zhì)譜檢漏儀重復(fù)測量三次,可用公式(2)計算氦質(zhì)譜檢漏儀在該漏率下的重復(fù)性。
今天和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)方法,如您想了解更多的產(chǎn)品信息,您可撥打圖片上的電話進(jìn)行咨詢!
氦質(zhì)譜檢漏儀的原理
氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管,真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源,質(zhì)量分析器和離子檢測器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機(jī)械泵、電磁閥和真空計組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束,以一定能量注入質(zhì)分析器,
目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實現(xiàn)分離。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)和工作原理
氦質(zhì)譜檢漏儀是180°磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計,其基本原理是根據(jù)離子在磁場中運動時,不同質(zhì)荷比的離子具有不同的偏轉(zhuǎn)半徑來實現(xiàn)不同種類離子的分離。檢漏儀主要由質(zhì)譜室、真空系統(tǒng)及電氣控制部分組成。檢漏工作時先打開抽空閥前級泵對檢漏接口抽真空,當(dāng)真空度P1 優(yōu)于200 Pa 時,打開入口閥1、2,關(guān)閉抽空閥,氦氣將逆著分子泵的抽氣方向進(jìn)入質(zhì)譜室中被檢測出來,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 10 Pa·m3/s。前級泵繼續(xù)對檢漏接口抽真空,當(dāng)P1降至20 Pa 時,入口閥2 關(guān)閉,入口閥3 打開,分子泵的高抽速用于抽空試件,檢漏儀的反應(yīng)時間縮短,此時檢漏儀的較小可檢漏率為10- 12 Pa·m3/s。(2)真空行業(yè),儀器、儀表行業(yè)管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、醫(yī)用加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計。
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