




氦質譜檢漏儀的主要配置
科儀創(chuàng)新產品主要有:薄膜制備設備,真空冶金設備,檢漏設備,真空系統(tǒng)等非標真空產品;系列分子泵,離子泵,鈦升華泵,深冷捕集泵等高真空獲得設備;檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應為儀器響應時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。系列干式渦旋泵,干式爪泵,干式螺桿泵等無油真空獲得設備;超高真空環(huán)境模擬設備等高新技術產品。今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家分享一下氦質譜檢漏儀的主要配置有哪些,希望對您有所幫助!
1. 檢漏儀專用分子泵
2. 機械泵或者干泵
3. 定制檢漏儀專用電磁閥
4. 內置標準漏口
5. 放大器
6. 采用質譜專用模塊
以上是科儀創(chuàng)新為您一起分享的內容,科儀創(chuàng)新專業(yè)生產氦檢漏,歡迎新老客戶蒞臨。
氦質譜檢漏儀的注意事項
檢漏儀的響應時間會影響檢漏工作的速度,正常運行的儀器響應時間不大于3s。筆者實測時,在漏點處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應,對于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應是相當?shù)撵`敏。
檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應為儀器響應時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體,滿足檢漏靈敏度方面的要求,減少本底干擾檢測的準確性。筆者根據(jù)實測經驗,兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內檢漏儀還沒有反應,則可進行第二次噴氦。
清除時間在理論上與響應時間相同,但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。筆者測算,在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點時,清除時間約須1分鐘;在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點時,清除時間約須2分鐘;在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點時,清除時間在3分鐘左右。氦質譜檢漏儀的校準方法(1)漏率校準①校準系統(tǒng)的組成校準系統(tǒng)由標準漏孔、截止閥及需校準的氦質譜檢漏儀組成。
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氦質譜檢漏儀
北京科儀創(chuàng)新真空技術有限公司是國內新興的一家專業(yè)從事真空領域的高新技術企業(yè)。
氦質譜檢漏技術是真空檢漏領域里不可缺少的一種技術,由于檢漏,簡便易操作,儀器反應靈敏,精度高,不易受其他氣體的干擾,在電阻爐檢漏中得到了廣泛應用。氦質譜檢漏儀是根據(jù)質譜學原理,用氦氣作示漏氣體制成的氣密性檢測儀器。真空法的檢測標準主要有QJ3123-2000《氦質譜真空檢漏方法》、GB/T15823-2009《氦泄漏檢驗》,主要應用于真空密封性能要求,但不帶壓工作的產品,如空間活動部件、液氫槽車、環(huán)境模擬設備等。由離子源、分析器、收集器、冷陰極電離規(guī)組成的質譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組成。
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