




氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三
(1)電子行業(yè)
微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。
(2)真空行業(yè),儀器、儀表行業(yè)
管道、接頭、閥門、波紋管、各種真空泵、各類排氣機(jī)組、電鏡、質(zhì)譜儀、電子束離子速暴光機(jī)、激光軸分離器、高能加1速器、加1速器、輻照加1速器、鍍膜機(jī)、薄膜真空計(jì)。
(3)核工業(yè)
鈾分離裝置、存儲(chǔ)裝置、核發(fā)電裝置。
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氦質(zhì)譜檢漏儀的校準(zhǔn)方法
(1) 漏率校準(zhǔn)① 校準(zhǔn)系統(tǒng)的組成
校準(zhǔn)系統(tǒng)由標(biāo)準(zhǔn)漏孔、截止閥及需校準(zhǔn)的氦質(zhì)譜檢漏儀組成。
②示值誤差
通電預(yù)熱,待氦質(zhì)譜檢漏儀啟動(dòng)完成后,采用標(biāo)準(zhǔn)漏孔對氦質(zhì)譜檢漏儀進(jìn)行校準(zhǔn),將一經(jīng)過校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)漏孔接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng),運(yùn)行氦質(zhì)譜檢漏儀,待漏率示值穩(wěn)定后,可以讀出標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率的氦質(zhì)譜檢漏儀示值,同一標(biāo)準(zhǔn)漏孔測量三次,計(jì)算氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值,從而得到標(biāo)準(zhǔn)漏孔漏率與氦質(zhì)譜檢漏儀示值平均值的示值誤差。這樣,它們在分析器中的偏轉(zhuǎn)半徑相差也大,容易分開,定標(biāo)找氦峰時(shí),不易受其他離子的干擾,因此就降低了對分析器制造精度的要求,易于加工。結(jié)束后,將其他量級的標(biāo)準(zhǔn)漏孔依次按此方法接入氦質(zhì)譜檢漏儀系統(tǒng)進(jìn)行測試,得到氦質(zhì)譜檢漏儀在每一量級下漏率的示值誤差。
如果測試結(jié)果有較大編差,可以考慮氦質(zhì)譜檢漏儀的自校功能,待完成后,再用標(biāo)準(zhǔn)漏孔進(jìn)行測試。
③ 重復(fù)性
測量重復(fù)性是用實(shí)驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)偏差表征的,本校準(zhǔn)方法采用極差法來表征重復(fù)性。在示值誤差測量中,每一標(biāo)準(zhǔn)漏孔用氦質(zhì)譜檢漏儀重復(fù)測量三次,可用公式(2)計(jì)算氦質(zhì)譜檢漏儀在該漏率下的重復(fù)性。
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氦質(zhì)譜檢漏儀故障與處理
(1)內(nèi)部的密封結(jié)構(gòu)
當(dāng)檢漏儀內(nèi)部存在泄漏時(shí),會(huì)對檢漏工作造成較大干擾,容易造成誤檢、誤判。筆者實(shí)測時(shí),在漏點(diǎn)處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。 檢漏儀內(nèi)部主要的密封部位在檢漏儀的后側(cè)(見圖2),位于隔熱板的上方:①檢漏儀測試口與閥門組塊的連接部位,密封方式采用膠灌密封,檢漏儀在運(yùn)輸過程中如遇到強(qiáng)烈震動(dòng),此處容易造成密封膠開裂。②各電磁閥與閥門組件間的連接部位。密封方式采用氟橡膠圈或金屬墊片密封,橡膠圈的密封壽命有限,使用5 年以上時(shí),有可能會(huì)存在密封失效的問題。③各零部件接口處的密封部位。如放大器與質(zhì)譜室、離子源與質(zhì)譜室、分子泵與質(zhì)譜室、標(biāo)準(zhǔn)漏孔與閥門組件、真空計(jì)與閥門組件等接口間的金屬墊片密封或橡膠圈密封。
(2)定位方法
采用噴吹法對各密封部位的氣密性進(jìn)行檢測,因檢漏儀內(nèi)部結(jié)構(gòu)緊湊,各密封結(jié)構(gòu)間的距離很近,檢測時(shí)定位難度較大。檢漏儀常規(guī)的維護(hù)適當(dāng)?shù)木S護(hù)您的檢漏儀是非常必要的,具體步驟如下:1、探頭清潔:利用附送的防護(hù)罩防止灰塵、水汽和油脂阻塞探頭,在使用本儀器前,均要檢查探頭和防護(hù)罩確無灰塵或油脂。經(jīng)摸索,在檢測時(shí)采用以下技巧,可提高定位的能力:①查漏前,先將分子泵風(fēng)扇的電源斷開,避免風(fēng)扇將氦源吹散至各個(gè)密封環(huán)節(jié),造成定位不準(zhǔn)確。②噴吹時(shí),要嚴(yán)格控制氦源的流量,盡量采用噴槍咀流量小的噴槍,提高定位的能力。③儀器的反應(yīng)時(shí)間小于1 s,所以在一個(gè)部位噴吹的時(shí)間約3 s,再等待約3 s 后觀測信號(hào)有無變化。
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