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氦質(zhì)譜檢漏儀

氦質(zhì)譜檢漏儀（Helium Mass SpectrometerLeakDetector）為氣體工業(yè)名詞術(shù)語，用氦氣或者氫氣作示漏氣體，以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。氦質(zhì)譜檢漏方法在真空檢漏技術(shù)領(lǐng)域里已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,這種方法的優(yōu)點是:檢漏靈敏度高,可以檢漏到10-11Pam3/s數(shù)量級,儀器響應(yīng)快,氦分子在儀器高真空的環(huán)境中擴散的速度很高。氦氣的本底噪聲低，分子量及粘滯系數(shù)小，因而易通過漏孔并易擴散；另外，氦系惰性氣體，不腐蝕設(shè)備，故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調(diào)整到僅對氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。

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氦質(zhì)譜檢漏儀對示漏氣體的要求及選擇

今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來分享一下氦質(zhì)譜檢漏儀對示漏氣體有哪些要求，希望對您有所幫助！

(1)無害，不能對人體或環(huán)境造成傷害;

(2)質(zhì)量輕，惰性氣體，穿透能力強，能穿透微小細縫;

(3)化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，不會引起化學(xué)反應(yīng)和易1燃易1爆;

(4)在空氣環(huán)境中含量盡可能少且組分基本恒定的氣體，滿足檢漏靈敏度方面的要求，減少本底干擾檢測的準確性。

氦質(zhì)譜檢漏儀的原理

氦質(zhì)譜檢漏儀一般由質(zhì)譜管，真空系統(tǒng)和電子系統(tǒng)組成。其中質(zhì)譜管包括離子源，質(zhì)量分析器和離子檢測器; 真空系統(tǒng)一般由分子泵、機械泵、電磁閥和真空計組成。離子源的作用是將原子電離成帶電離子并聚焦成束，以一定能量注入質(zhì)分析器，

目前常用的電子轟擊型離子源有尼爾型和震蕩型兩種形式。質(zhì)分析器的作用起將各類離子按其質(zhì)荷比的不同實現(xiàn)分離。

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氦質(zhì)譜檢漏儀光無源器件檢漏

光無源器件是不含光能源的光能器件的總稱。（3）其它據(jù)日本有關(guān)文章介紹，日本汽車制造業(yè)，已有30多種零部件在使用氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏，解決密封問題。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。

光無源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。將這種氣體噴到接有氣體分析儀（調(diào)整到僅對氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài)）的被檢容器上，若容器有漏孔，則分析儀即有所反應(yīng)，從而可知漏孔所在及漏氣量大小。光無源器件在光路中都要消耗能量，插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。

無源器件檢漏原因：光無源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分，也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。另外，逆擴散檢漏方式，實現(xiàn)了高壓強下檢漏，也為正壓吸槍檢漏提供了良好的條件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點。光無源器件對密封性的要求極高，如果存在泄漏會影響其使用性能和精度，光通信行業(yè)的漏率標準是小于 5×10-8  mbar.l/s，因此需要進行泄漏檢測。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準確定位，定量漏點，替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏，目前已廣泛應(yīng)用于光無源器件的檢漏。