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電力真空箱測漏系統(tǒng)貨源充足 科儀創(chuàng)新真空
2021-06-18






氦質(zhì)譜檢漏儀

氦質(zhì)譜檢漏儀(Helium Mass SpectrometerLeakDetector)為氣體工業(yè)名詞術(shù)語,用氦氣或者氫氣作示漏氣體,以氣體分析儀檢測氦氣而進(jìn)行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低,分子量及粘滯系數(shù)小,因而易通過漏孔并易擴(kuò)散;另外,氦系惰性氣體,不腐蝕設(shè)備,故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到僅對氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上,若容器有漏孔,則分析儀即有所反應(yīng),從而可知漏孔所在及漏氣量大小。(4)全無油的干式檢漏:有些國家生產(chǎn)的檢漏儀,可采用干式泵,達(dá)到無油蒸氣的效果,為無油系統(tǒng)及芯片等半導(dǎo)體器件的檢漏,提供了有利條件。

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氦質(zhì)譜檢漏儀的注意事項

檢漏儀的響應(yīng)時間會影響檢漏工作的速度,正常運行的儀器響應(yīng)時間不大于3s。筆者實測時,在漏點處噴射氦氣5~10s后,檢漏儀就發(fā)生響應(yīng),對于如此龐大的真空系統(tǒng),其反應(yīng)是相當(dāng)?shù)撵`敏。

檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應(yīng)為儀器響應(yīng)時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。筆者根據(jù)實測經(jīng)驗,兩次噴氦的較小間隔時間控制在30s左右,即如果次噴氦后30s內(nèi)檢漏儀還沒有反應(yīng),則可進(jìn)行第二次噴氦。氦氣在氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏中作為示蹤氣體使用,純度要求不高,一般選用工業(yè)用氦,即氦含量≥99%,露1點≤43℃。

清除時間在理論上與響應(yīng)時間相同,但由于儀器零件對氦的吸附和脫附作用的影響,清除時間一般要更長些。筆者測算,在測試到數(shù)量級為10-9P a ?m3/s的微漏漏點時,清除時間約須1分鐘;另外,逆擴(kuò)散檢漏方式,實現(xiàn)了高壓強(qiáng)下檢漏,也為正壓吸槍檢漏提供了良好的條件。在測試到數(shù)量級為10-8P a ? m3/s的中漏漏點時,清除時間約須2分鐘;在測試到數(shù)量級為10-7Pa?m3/s的大漏漏點時,清除時間在3分鐘左右。

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氦質(zhì)譜檢漏儀常用檢漏方法及標(biāo)準(zhǔn)

氦質(zhì)譜檢漏法是利用氦質(zhì)譜檢漏儀的氦分壓力測量原理,實現(xiàn)被檢件的氦泄漏量測量。當(dāng)被檢件密封面上存在漏孔時,示漏氣體氦氣及其它成分的氣體均會從漏孔泄出,泄漏出來的氣體進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀后,由于氦質(zhì)譜檢漏儀的選擇性識別能力,僅給出氣體中的氦氣分壓力信號值。在獲得氦氣信號值的基礎(chǔ)上,通過標(biāo)準(zhǔn)漏孔比對的方法就可以獲得漏孔對氦泄漏量。檢漏時噴槍在漏孔處停留的時間應(yīng)為儀器響應(yīng)時間的3倍,該時間再加上氦氣在真空系統(tǒng)中的傳遞時間,即為兩次噴氦的較小間隔時間,當(dāng)然真空系統(tǒng)越龐大,該間隔時間也越長。

根據(jù)檢漏過程中的示漏氣體存貯位置與被檢件的關(guān)系不同,可以將氦質(zhì)譜檢漏法分為真空法、正壓法、真空壓力法和背壓法,下面分別總結(jié)了這四種氦質(zhì)譜檢漏法的檢測原理、優(yōu)缺點及檢測的標(biāo)準(zhǔn)。

真空法氦質(zhì)譜檢漏

采用真空法檢漏時,需要利用輔助真空泵或檢漏儀對被檢產(chǎn)品內(nèi)部密封室抽真空,采用氦罩或噴吹的方法在被檢產(chǎn)品外表面施氦氣,當(dāng)被檢產(chǎn)品表面有漏孔時,氦氣就會通過漏孔進(jìn)入被檢產(chǎn)品內(nèi)部,再進(jìn)入氦質(zhì)譜檢漏儀,從而實現(xiàn)被檢產(chǎn)品泄漏量測量。按照施漏氣體方法的不同,又可以將真空法分為真空噴吹法和真空氦罩法。其中真空噴吹法采用噴槍的方式向被檢產(chǎn)品外表面噴吹氦氣,可以實現(xiàn)漏孔的準(zhǔn)確定位; 真空氦罩法采用有一定密閉功能的氦罩將被檢產(chǎn)品全部罩起來,在罩內(nèi)充滿一定濃度的氦氣,可以實現(xiàn)被檢產(chǎn)品總漏率的測量。氦質(zhì)譜檢漏儀的應(yīng)用拓展三(1)電子行業(yè)微波發(fā)射管、電子管、晶體管、集成電路、密封繼電器、各類傳感器、心臟起博器。

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