




氦質(zhì)譜檢漏儀(Helium Mass SpectrometerLeakDetector)為氣體工業(yè)名詞術(shù)語,用氦氣或者氫氣作示漏氣體,以氣體分析儀檢測氦氣而進行檢漏的質(zhì)譜儀。氦氣的本底噪聲低,分子量及粘滯系數(shù)小,因而易通過漏孔并易擴散;氦質(zhì)譜檢漏儀主要特點:前級泵配備抽速高達15m3/h旋片泵,對氦氣抽速可達2。另外,氦系惰性氣體,不腐蝕設(shè)備,故常用氦作示漏氣體。將這種氣體噴到接有氣體分析儀(調(diào)整到僅對氦氣反應(yīng)的工作狀態(tài))的被檢容器上,若容器有漏孔,則分析儀即有所反應(yīng),從而可知漏孔所在及漏氣量大小。
北京科儀創(chuàng)新真空技術(shù)有限公司專業(yè)生產(chǎn)氦質(zhì)譜檢漏儀,如您想了解更多您可撥打圖片上的電話進行咨詢!
今天和大家分享的是氦質(zhì)譜檢漏儀的相關(guān)知識,希望對您有所幫助!
氦質(zhì)譜檢漏方法在真空檢漏技術(shù)領(lǐng)域里已經(jīng)得到廣泛的應(yīng)用,這種方法的優(yōu)點是:檢漏靈敏度高,可以檢漏到10-11Pam3/s 數(shù)量級,儀器響應(yīng)快,氦分子在儀器高真空的環(huán)境中擴散的速度很高;所以氦質(zhì)譜檢漏儀在許多領(lǐng)域里得到廣泛的應(yīng)用,例如,在航空航天領(lǐng)域里宇宙飛船、航天飛機、火箭、飛機等這些都要用到真空檢漏技術(shù)。在一般工業(yè)領(lǐng)域里原子能、發(fā)電廠、配電站、合成氨的氮肥生產(chǎn)廠、汽車制造業(yè)、造船工業(yè)、制冷工業(yè)、冶金工業(yè)、輸氣管道、氣罐、油罐、鍋爐快餐食品包裝等都離不開檢漏問題,同樣在導(dǎo)1彈武1器裝備中也離不開檢漏,導(dǎo)1彈彈體、燃料儲備罐、燃料運輸管道、彈頭、特殊部件的密封性都要用到氦質(zhì)譜檢漏,本文主要真對氦質(zhì)譜檢漏原理及方法進行綜述。2氦質(zhì)譜檢漏方法分析氦質(zhì)譜檢漏是以氦作探索氣體,對各種需密封的容器的漏隙進行快速定位和定量檢測的理想方法。
氦質(zhì)譜檢漏儀的環(huán)境條件
氦質(zhì)譜檢漏儀是現(xiàn)在比較常用的儀器,今天科儀創(chuàng)新的小編就和大家來說一下,氦質(zhì)譜檢漏儀的使用環(huán)境條件有哪些,希望對您有所幫助!
校準環(huán)境溫度為(23 ± 5) ℃ ,校準過程中室溫變化不超過± 1℃ ,環(huán)境相對濕度不大于80% 。
校準設(shè)備周圍應(yīng)無明顯的溫差、氣流和強電磁場等外部干擾。
環(huán)境溫度較好控制在23℃ 附近,因為標準漏孔的出廠標稱漏率對應(yīng)的環(huán)境溫度一般為23℃ 。
氦質(zhì)譜檢漏儀光無源器件檢漏
光無源器件是不含光能源的光能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。氫氣有些性能(如質(zhì)量小、易通過漏孔)比氦還好,然而由于氫一方面有易1爆危險,另一方面在油擴散泵中,由于油受熱裂解會產(chǎn)生大量的碳和氫,使氫本底極高且波動大,以致靈敏度大大降低,所以很少采用。
光無源器件是不含光能源的光功能器件的總稱。光無源器件在光路中都要消耗能量,插入損耗是其主要性能指標。光無源器件有光纖連接器、光開關(guān)、光衰減器、光纖耦合器、波分復(fù)用器、光調(diào)制器、光濾波器、光隔離器、光環(huán)行器等。它們在光路中分別實現(xiàn)連接、能量衰減、反向隔離、分路或合路、信號調(diào)制、濾波等功能。本文主要介紹氦質(zhì)譜檢漏儀在無源器件中的檢漏應(yīng)用。3)航天工業(yè)中、各類閥門、電子元器件,傳感器等等都在廣泛應(yīng)用氦質(zhì)譜檢漏儀及其檢漏技術(shù)。
無源器件檢漏原因:光無源器件是光纖通信設(shè)備的重要組成部分,也是其它光纖應(yīng)用領(lǐng)域不可缺少的元器件。具有高回波損耗、低插入損耗、高可靠性等特點。光無源器件對密封性的要求極高,如果存在泄漏會影響其使用性能和精度,光通信行業(yè)的漏率標準是小于 5×10-8 mbar.l/s,因此需要進行泄漏檢測。氦質(zhì)譜檢漏法利用氦氣作為示蹤氣體可準確定位,定量漏點,替代傳統(tǒng)泡沫檢漏和壓差檢漏,目前已廣泛應(yīng)用于光無源器件的檢漏。這一檢漏方式是基于分子泵對不同質(zhì)量的氣體具有不同壓縮比(氣體在分子泵出氣口壓強與進氣口壓強之比)即利用不同氣體的逆擴散程度不同程度而設(shè)計的。